| 法人番号 | 1010401164466 |
| 企業名（法人名） | テクセンドフォトマスク株式会社 |
| 読み方 | テクセンドフォトマスク |
| 業種・業界 | |
| 業務内容 | |
| 郵便番号 | 〒105-0021 |
| 本社住所 |
東京都港区東新橋１丁目５番２号 アクセス方法をGoogleMapで見る |
| 証券コード | 未上場 |
| 社長/代表取締役 | 非表示中 |
| ホームページ | https://phot***** |
| 電話番号 | |
| FAX番号 | |
| 設立年 | 2021年 |
| 法人番号指定日 | 2021年12月16日 ※2015年10月5日より前に設立された場合、一律で 2015年10月05日 に指定されています。 |
| 最終登記更新日 | 2024年11月01日 ※2015年10月5日より前に設立された場合、一律で 2015年10月05日 に指定されています。 |
テクセンドフォトマスク株式会社の企業情報
テクセンドフォトマスク株式会社のインボイス番号
| インボイス番号 | T1010401164466 |
| 適格請求書発行事業者登録番号 | T1010401164466 |
| 適格請求書発行事業者登録日 | 2023年10月01日 |
| 適格請求書発行事業者情報更新日 | 2024年11月25日 |
収益の推移（売上高・営業利益・純利益）
財務健全性の推移（総資産・利益剰余金）
テクセンドフォトマスク株式会社の決算推移
| 項目 | 2022年7月期 | 2024年8月期 | 2025年3月期 |
|---|---|---|---|
| 売上高 | - | - | - |
| 前年比 | - | - | - |
| 営業利益 | - | - | - |
| 純利益 | 0円 | 50億1,900万円 | 230億9,100万円 |
| 前年比 | - | - | +360.1% |
| 総資産 | 5,000万円 | 1,116億9,300万円 | 1,681億8,500万円 |
| 利益剰余金 | 0円 | 159億4,500万円 | 302億2,100万円 |
出典：インターネット版官報 グラフ単位：百万円
官報決算公告データを持つ他の企業も見る →
テクセンドフォトマスク株式会社の決算公告
| 項目 | 内容 |
| 発表日 | 2025年07月09日 |
| 会社ホームページ | https://www.photomask.com/ |
| 業種 | 製造業 |
| 決算末日 | 2025年03月31日 |
| 純利益 | 230億9,100万円 (+360.07%) |
| 利益剰余金 | 302億2,100万円 (+89.53%) |
| 総資産 | 1,681億8,500万円 (+50.58%) |
| 用途 | ㎡単価 中央値 | 前年比 |
|---|---|---|
| 中古マンション | 1,666,667円/㎡ | +13.6% |
| 宅地・土地 | 2,600,000円/㎡ | -3.7% |
出典: 国土交通省 不動産情報ライブラリを加工 / houjin.goo.to
この企業の受給実績データはありませんが、東京都全体では累計52,402件・8.9兆円の補助金・政策支援実績があります。
出典: 経済産業省gBizINFOを加工 / houjin.goo.to。本サービスは政府公式サービスではありません。
-
2025年7月9日 決算公告決算公告を掲載純利益 231万円
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2024年8月1日 決算公告決算公告を掲載
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2023年10月1日 インボイス登録インボイス発行事業者として登録登録番号: T1010401164466
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2022年7月12日 決算公告決算公告を掲載
出典: インターネット版官報(国立印刷局) / 国税庁 適格請求書発行事業者公表システムを当サイトが集計。
この住所にはテクセンドフォトマスク株式会社を含めて157社が登記されています。
ほか151社
出典: 国税庁「法人番号公表サイト」の登記住所を当サイトが集計。同一ビル・バーチャルオフィスの可能性があります。
132,877
港区の総法人数
11.5%
電話番号掲載率
22.5%
ホームページ掲載率
出典: 国税庁「法人番号公表サイト」を当サイトが集計。
6
特許
—
商標
—
意匠
直近の特許
| 出願日 | 名称 | 技術分野 |
|---|---|---|
| 2023-08-07 | フォトマスク及びその検査方法 | 写真・映画・光波以外の波を使用する類似技術・電子写真・ホログラフイ |
| 2020-04-30 | 反射型フォトマスクブランク及び反射型フォトマスク | 写真・映画・光波以外の波を使用する類似技術・電子写真・ホログラフイ |
| 2020-01-08 | タングステンブランクス及びタングステン加工品の製造方法 | 金属質材料への被覆・金属質材料による材料への被覆・化学的表面処理・金属質材料の拡散処理・真空蒸着，スパッタリング，イオン注入法，または化学蒸着による被覆一般・金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般 |
出典: 経済産業省 gBizINFO(原典: 特許庁)を当サイトが集計。2018年〜2023年 出願分を対象としています。
テクセンドフォトマスク株式会社の企業情報・企業分析
| 業界分類 | |
| エリア |
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